光電行業超純水-蘇州偉志水處理設備有限公司 張 15312197603
光電行業對水質的要求：新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。 
應用場合： v 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 v 電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 v 顯像管和陰極射線管生產、配料用純水 v 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 v 液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液 v 晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 v 集成電路生產中高純水清洗硅片 v 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路 v LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏 v 高品質顯像管、螢光粉生產 v 半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗 v 超純材料和超純化學試劑、超純化工材料 v 實驗室和中試車間 v 汽車、家電表面拋光處理 v 光電產品、其他高科技精微產品四、
典型電子級超純水制備工藝： 
 1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）
設備特點 為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。